浸要产物：初效过滤器、中效过滤器、高效过滤器、FFU、VOC过滤器、BIBO过滤器
正在半导体工场中，微浑浊会带来严酷的挑拨。洁斐然为半导体行业供应广漠的解决盘算推算，征采灰尘预滤器、HEPA和ULPA过滤器以及AMC把持操持部署等，可消浸明净室颗粒燥热态化学混浊物的浓度：将尘埃降至ISO 1级秤谌 ，将AMC降至ppb级别以下。
气态化学浑浊物（AMC）对小尺寸的半导体制造有着特别的嗾使。酸性气体、碱性气体、有机物、难熔性有机物和掺杂性有机物之间产生无需要的化学反响，教导晶圆外貌和工艺装置的光学器件，从而正在芯片坐蓐历程中产生不良品，颓唐机台摆设的分娩见效。
AMC正在闭键皎洁室制造工艺中日益阐扬注意要的效用。跟着工艺央浼越来越高，器件尺寸缩短，工艺操作面对广阔压力。晶圆也许要正在工场内存放整整一个月的韶华，正在最终产物出货之前体验数百个工艺制程。正在该经历中任何纤细的污染都会对晶圆厂的总良率产生宏伟教授。
另一个挑衅正在于，跟着大尺寸晶圆的宽敞，单个晶圆的资本填充，针对机台把持纳米级颗粒物和AMC浑浊的须要也响应推广。其它，正在EUV机台和众浸曝光DUV光刻机中操纵的无缺陷掩模的本钱飞扬，给厂务端的编制支配以及量测机台和掩膜版留存等微际遇的混浊支配编制带来了压力。
拥戴您的工艺摆设和晶圆，使其免受纳米级颗粒物燥热态化学稠浊物陶染，洁斐然照料放置正在半导体筑设处境中通过现场和实践室验证，收罗光刻、蚀刻、扩散、金属化、薄膜、离子注入、量测机台以及光罩或晶圆保存地区。
洁斐然的灰尘预滤器系列产物保障新风空调箱的最粗劣耗，吝惜HEPA过滤器，仔细硼开释。始末众年的展开，粘合剂本事和滤料化学性子络续完满；洁斐然HEPA和ULPA过滤器或许尽或许减罕有机稠浊物的挥发（即低挥发性）。经验用于晶圆切割的排气责罚编制以及用于粗浅排气备用系统的气体净化机组，珍视您的际遇免受工艺污染。
